光刻（photolithography）

光刻就是用光把电路「印」到硅片上。先在晶圆上涂一层对光敏感的薄膜，叫光刻胶；再让光透过一块带有该层图案的掩模（像镂空模板）照下去，被照到的胶就发生变化——要么被洗掉，要么留下来，从而留出一个清晰的模板。这就像冲洗照片：掩模是底片，光刻胶是相纸，光决定什么能留下来。沿着这些开口蚀刻，再去掉余下的胶，图案就刻进芯片里了。

芯片是一层层叠出来的，所以这套动作要重复几十遍——先做晶体管，再在上面布线——每一层都要与上一层对准到几纳米以内。难点在于分辨率：光画不出比自身波长细太多的线条，所以要做更小的晶体管，就得用更短的光，从紫外一路缩到今天波长 13.5 纳米的极紫外（EUV）。EUV 几乎被一切物质吸收，连空气也挡不住它，所以只能在真空里工作，靠反射镜而非透镜来导光成像，连掩模本身也是一面反射镜，而不是透光的镂空模板——这正是每座先进晶圆厂的工程核心。