先進封裝
三維積體電路(3D IC)
三維積體電路(3D IC)把有源矽晶粒「垂直」堆疊起來,以面對面或穿過矽本體的方式相連,讓訊號在各層之間上下穿行,而非向側邊引出。如果說 2.5D 是同一月台上的數棟塔樓,3D 就是把一顆晶片直接疊到另一顆之上,並在樓層之間鑽出直達電梯。這些「電梯」就是矽穿孔(TSV),在最先進的形式中則是無銲料、直接銅對銅接合兩片晶圓的混合鍵合。
走向垂直大幅縮短訊號的傳播距離——堆疊層間的一條連接可比把相同網路繞過電路板短上數百倍——因此延遲更低、頻寬大增、每位元耗能更省。記憶體疊邏輯(把快取疊在 CPU 上)與堆疊式 DRAM(HBM)是旗艦應用。難點在散熱:被埋住的晶粒無法像頂層晶粒那樣從背面散熱,因此耗電的層必須極其謹慎地配置與冷卻。
當心行銷用語的浮濫:HBM 記憶體立方體採用 TSV 晶粒堆疊(真正的 3D),但許多號稱「3D 封裝」者其實是中介層上的 2.5D 並排——規格書上的「3D」未必代表晶粒真的疊在一起。
又称
另见