光刻 / 微影（photolithography）

光刻就是用光把電路「印」到矽晶圓上。先在晶圓上塗一層對光敏感的薄膜，叫光阻；再讓光透過一塊帶有該層圖案的光罩（像鏤空模板）照下去，被照到的光阻就會改變——要麼被洗掉，要麼留下來，從而留出一個清晰的模板。這就像沖洗照片：光罩是底片，光阻是相紙，光決定什麼能留下來。沿著這些開口蝕刻，再去掉剩下的光阻，圖案就刻進晶片裡了。

晶片是一層層疊出來的，所以這套動作要重複幾十遍——先做電晶體，再在上面佈線——每一層都要與上一層對準到幾奈米以內。難點在於解析度：光畫不出比自身波長細太多的線條，所以要做更小的電晶體，就得用更短的光，從紫外一路縮到今天波長 13.5 奈米的極紫外光（EUV）。EUV 幾乎被一切物質吸收，連空氣也擋不住它，所以只能在真空中運作，靠反射鏡而非透鏡來導光成像，連光罩本身也是一面反射鏡，而不是透光的鏤空模板——這正是每座先進晶圓廠的工程核心。