光學鄰近修正（optical proximity correction, OPC）

光學鄰近修正（OPC）是一種技巧：刻意扭曲畫在光罩上的圖形，好讓投影模糊之後，真正印到晶圓上的形狀正是你想要的。用來圖案化晶片的光，其波長遠大於今日的線寬，因此會在轉角與線端彎折、暈開——方塊印成圓團、線條從鄰居處縮回。OPC 預先補償：在光罩上加上小錘頭凸耳、襯線與「輔助圖形」，等光學把一切抹糊後，平均回來剛好是清晰的目標。

它本質上是把反卷積（deconvolution）烤進光罩：先模擬光學會如何扭曲每個圖形，再把畫好的多邊形依其反函數變形，使印出的結果正確。當線寬遠縮到曝光波長之下，OPC 從可有可無的潤飾變成絕對必需，修正後的光罩資料量可膨脹到原始佈局的數倍——這也是先進節點一套光罩動輒數百萬美元的主因之一。