量子比特究竟是用什么做的
把一个超导量子比特拆到底,你会发现成分少得出奇。一层薄薄的金属膜——也就是承载无损电流的超导体——被刻在一块平整的晶体上,这块晶体叫做衬底。这差不多就是整块芯片了:一块刻好图案的薄膜,盖在一块抛光的板子上。关于相干,所有微妙又棘手的事情,都不发生在这两者的体内,而发生在它们彼此相遇、以及与空气相遇的那些薄如纸的界面上。
这些金属构成了一棵小小的家谱。最早是铝:好沉积,而且会自己长出一层干净的氧化层来做结。接着是铌,因为它能在更高的温度下保持超导,也更耐受加工。更新的宠儿是钽。这几种里没有哪个明摆着“最好”——每一种都在制造的难易、和低温下表面行为的干净程度之间做着权衡。
A qubit chip, in cross-section (not to scale):
air / vacuum
================== <- metal-air interface (oxide skin)
[ superconducting film: Al / Nb / Ta ]
------------------ <- metal-substrate interface
| |
| substrate: | <- substrate surface interface
| Si or sapphire|
|________________|
3 thin interfaces, not the bulk, host most of the loss为什么是界面,以及一点损耗的算账
界面之所以占主导,是因为缺陷就住在那里。体内干净的晶体很安静,但它的表面会长出几纳米厚的氧化层和脏东西,而这层皮里满是双能级系统缺陷——单个原子或分子来回翻动,悄悄喝掉量子比特的能量。每一种损耗机制都汇总成一个数字,叫做量子比特的内部品质因数,写作 Q_i:能量在漏光之前能撑过多少个周期。Q_i 越大,意味着量子比特活得越久、越干净。
这里有一个值得记住的核心想法。一个糟糕的界面到底有多伤,取决于两件事相乘:量子比特的电场有多少份额落在那个区域里(它的参与比,记作 p),以及那个区域本身有多损耗(它的损耗角正切,写作 tan-delta)。一个区域只有在“电场住在那里”且“它本身又损耗”时才要紧。这就是为什么解决办法可以从两边任意一边下手——要么把电场从脏层里推开,要么把那层做得更干净。
Loss adds up region by region:
1 / Q_i = sum over regions of ( p_region x tan-delta_region )
p = participation: fraction of the qubit's
electric field energy stored in that region
tan-delta = loss tangent: how lossy that region is
Q_i = internal quality factor (higher = cleaner)
A thin oxide with tiny p can still dominate
if its tan-delta is large enough.准粒子:一种突如其来、性质不同的错误
损耗角正切和 TLS 缺陷会让量子比特逐渐消退。但还有第二种更“成块”的失效,它以突然的爆发出现:准粒子毒化。在超导体里,电子通常成对滑行、毫无阻力。但时不时会有一点游离的能量打散一对,留下松散的“断裂”电子——准粒子——在薄膜里游荡。当其中一个在不该来的时刻隧穿过结,它能一下子就把量子比特翻掉。
让它格外阴险的是能量从哪来。有些是没冷透的热量;有些是顺着布线漏下来的杂散光;还有一些——令人吃惊——是宇宙射线,以及实验室墙体里天然放射性元素,把电子对撞散。因为这一击来得突然,而且会在许多量子比特之间彼此关联,它对纠错尤其要命——纠错通常假定错误是一个一个、随机到来的。
- 杂散的能量——热、光、甚至一束宇宙射线——打散了一对超导电子。
- 松散的“断裂”电子(准粒子)在金属薄膜里漂移。
- 其中一个在错误的瞬间隧穿过结,一跃就把量子比特翻掉。
- 设计者用屏蔽、不透光的封装,以及在薄膜里设置“陷阱”来反击——这些陷阱在准粒子抵达结之前就把它们吸收掉。
钽带来的跃升,以及它真正告诉我们的
这里有一个把上面所有道理都兑现的具体例子。多年来,基于铌的量子比特似乎卡在一个相干时间的天花板上。铌的表面会长出一层杂乱、成分繁多的氧化层——正是参与比公式所警告的那种损耗皮。大约在 2021 年,几个团队改用钽重新搭出同样的量子比特。钽长出的是单一、稳定、规规矩矩的氧化层,于是相干时间一步就大约翻了三倍,进入到几百微秒的量级。
The materials ladder (rough, illustrative): film surface oxide typical coherence ---- ------------- ----------------- Al clean, self-grown tens of microseconds Nb messy, many phases ~ tens of microseconds Ta single, stable few hundred microseconds Same circuit. Different metal. Cleaner interface. Numbers vary by lab and design -- read them as a trend.
人们很容易把这件事读成“钽赢了”。但更诚实的读法要微妙些。这次跃升不是来自灵光一现,而是来自多年耐心的表面科学,终于弄清了到底是哪种氧化层在作怪,并换上了一种行为规矩的。而且钽并不是终点——氮化钛、更干净的硅表面、更温和的刻蚀配方,都在并行推进。这里的进步来之不易,而且是渐进的,是一个界面一个界面地换来的。